|
|
vol. 9, nr. 1 (2007)
|
Wytrzymałość modelowych kwasów humusowych na promieniowanie UV-C
|
|
|
Patryk Pluciński1, Zbigniew Górski2, Janusz Sławiński3
|
|
| (pobierz wersję PDF )
|
|
|
1 Instytut Dendrologii PAN, ul. Parkowa 6, 62-035 Kornik
email: patrykos@autograf.pl |
|
|
2 Laboratorium Radiochemiczne Katedra Chemii Fizycznej, Politechnika Poznańska
ul. Piotrowo 3, 60-695 Poznań |
|
|
3 Instytut Ekotechnologi, Państwowa Wyższa Szkoła Zawodowa
ul. K. Kard. S. Wyszyńskiego 38, 62-200 Gniezno |
|
|
vol. 9 (2007), nr. 1,
pp. 191-202
|
|
|
streszczenie:
Promieniowanie UV coraz to bardziej przenikające przez Biosferę stawia pytanie o fotowytrzymałość substancji humusowych. Czy istnieje zależność między fotowytrzymałością a składem chemicznym prekursorów kwasów humusowych. Zsyntetyzowano kwasy humusowe z pyrokatecholu, hydrochinonu + tyrozyna, purpurogaliny oraz użyto dla porównania naturalnych kwasów Fluka. Były one napromieniowywane UV-C. Mierzono widma emisji fluorescencji, absorpcji oraz chemiluminescencję roztworów alkali kwasów humusowych przed i po różnych czasach napromieniowania. Najbardziej odporny na promieniowanie UV-C był syntetyczny kwas humusowy otrzymany z pyrokatecholu, natomiast najbardziej labilny był kwas humusowy otrzymany z purpurogaliny. Możliwe powody wysokiej/ niskiej fotowytrzymałości kwasów humusowych na UV-C są krótko omówione.
|
|
słowa kluczowe:
kwasy humusowe, fotowytrzymałość, promieniowanie UV-C, widma luminescencji, obrazowanie chemiluminescencji
|
|
język oryginału:
angielski
|
|
|
|
|
|
